平行强磁场对Ni-纳米Al2O3复合共沉积的影响

摘要：

　　本文将Ni-纳米Al2O3复合电镀过程移置于10T平行强磁场(B//J)中，探讨了有无平行强磁场条件下电流密度对镀层形貌及镀层中颗粒含量的影响规律。结果表明，在10T平行强磁场下，氧化铝颗粒在复合镀层中呈网格状分布，并且网格的尺寸随着电流密度的增加而增加；电流密度显著影响镀层中纳米氧化铝的含量，不论是否施加磁场，当电流密度为2A·dm-2时镀层中颗粒含量最高。施加强磁场时，可使镀层在低电流密度下获得较高的纳米颗粒含量。

关键词： 平行磁场 镍 纳米氧化铝颗粒 复合镀层 电沉积响应 MHD效应

作者: 汪超 钟云波 任忠鸣 龙琼 周鹏伟 任维丽

作者单位: 上海大学,上海市现代冶金与材料制备重点实验室,上海,200072

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国力学大会2011暨钱学森诞辰100周年纪念大会

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 1-13

在线出版日期: 2011-08-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）