等离子体对平板边界层控制的实验研究
采用粒子图像测速(Particle Image Velocimetry, PIV)技术,研究了电晕放电等离子体激励对平板边界层的控制特性；在低速风洞中开展了测力实验,对施加介质阻挡放电等离子体控制前后平板的受力特性进行了研究,研究了激励电压,激励频率、来流风速等参数对平板边界层控制的规律。研究结果表明,等离子体可以有效地对平板边界层进行控制,抑制气流分离,减小阻力,显著改善绕流流场特性；施加控制后,在来流20m/s时,最大升力增加6.3％,最小阻力减小7.2%；来流30m/s时,最大升力增加5%,最小阻力减小3%。
等离子体 电晕放电 介质阻挡放电 流动控制 边界层 风洞试验
王万波 张鑫 黄宗波 黄勇 王勋年 沈志洪
中国空气动力研究与发展中心,四川绵阳,621000
国内会议
哈尔滨
中文
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2011-08-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）