Ni75Al7.5V17.5合金中有序畴界的微观相场模拟
为研究界面原子尺度结构对界面迁移性和界面成分的影响，本文基于微观相场法模拟了Ni75Al7.5V17.5合金沉淀过程，并研究了沉淀过程中形成的两种DO22间同相界面和两种DO22与L12间异相界面的界面迁移特征和界面成分。研究表明界面的迁移性与界面结构有关，界面迁移过程的原子跃迁和替换模式是动力学和热力学上诱导界面迁移的最优化路径，界面迁移过程中原子跃迁具有位置选择性；溶质原子的偏聚和贫化倾向及程度与界面的原子结构有关系；界面拘陷效应会使得溶质原子的偏聚和贫化倾向不随界面位置的改变而改变；随着界面迁移的进行，界面处溶质原子的偏聚和贫化程度降低，界面明锐化。
镍基合金 有序畴界 微观相场法 界面迁移性 拘陷效应
张明义 王永欣 陈铮
西北工业大学凝固技术国家重点实验室，陕西省西安市 710072
国内会议
长沙
中文
1-5
2010-06-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）