沉积参数对Mo-Re合金箔片上沉积金刚石薄膜的影响
采用热丝化学气相沉积法(HPCVD),以甲烷和氢气为反应气体,在Mo-Re合金箔片(d=6μm)上沉积金刚石薄膜。采用X射线衍射仪(XRD),扫描电子显微镜(SEM),显微激光拉曼光谱仪(Raman)分别对金刚石薄膜相组成、表面形貌、晶粒大小和质量等进行检测分析,讨论了各沉积参数,如基体温度,甲烷浓度,沉积压强对金刚石薄膜生长的影响。结果表明,在基体温度Tsub=750℃,甲烷浓度CH4:H2=1.5:50,沉积压强P=3.5KPa时,薄膜平均生长速率高达1μm/h,得到的金刚石膜完整致密,晶粒大小均匀,纯度最高,有明显的(111)织构。
金刚石薄膜 钼-铼合金 沉积参数 薄膜质量 薄膜致密性
王健 余志明 吴晓斌 刘倩
中南大学材料科学与工程学院, 湖南长沙 410083
国内会议
长沙
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1-10
2010-06-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)