沉积参数对Mo-Re合金箔片上沉积金刚石薄膜的影响

摘要：

　　采用热丝化学气相沉积法（HPCVD），以甲烷和氢气为反应气体，在Mo-Re合金箔片（d=6μm）上沉积金刚石薄膜。采用X射线衍射仪（XRD），扫描电子显微镜（SEM），显微激光拉曼光谱仪（Raman）分别对金刚石薄膜相组成、表面形貌、晶粒大小和质量等进行检测分析，讨论了各沉积参数，如基体温度，甲烷浓度，沉积压强对金刚石薄膜生长的影响。结果表明，在基体温度Tsub=750℃，甲烷浓度CH4：H2=1.5：50,沉积压强P=3.5KPa时，薄膜平均生长速率高达1μm/h，得到的金刚石膜完整致密，晶粒大小均匀，纯度最高，有明显的（111）织构。

关键词： 金刚石薄膜 钼-铼合金 沉积参数 薄膜质量 薄膜致密性

作者: 王健 余志明 吴晓斌 刘倩

作者单位: 中南大学材料科学与工程学院， 湖南长沙 410083

会议类型: 国内会议

会议名称: 2010中国材料研讨会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 1-10

在线出版日期: 2010-06-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）