温度对CVD钽涂层组成、显微组织及形貌的影响

摘要：

　　利用TaCl2-H2-HCl反应体系，采用冷壁式化学气相沉积法(CVD)在钼基体表面沉积钽涂层。研究了沉积温度对钽涂层的的组成、显微组织及表面形貌的影响，结果表明：在1000～1300℃范围内，随沉积温度的升高，钽沉积层的组成无明显变化，而对择优生长有一定影响；钽沉积层晶粒尺寸随沉积温度的升高而增大；钽沉积层表面颗粒呈金字塔形多面体且随沉积温度的升高而增大。

关键词： 钼基体合金 钽涂层 化学气相沉积法 难熔金属 钽沉积层 晶粒尺寸

作者: 蔡宏中 魏巧灵 陈力 王云 胡昌义

作者单位: 昆明贵金属研究所，云南 昆明 650106 云南稀贵金属材料重点实验室，云南 昆明 650106

会议类型: 国内会议

会议名称: 2010中国材料研讨会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 1-7

在线出版日期: 2010-06-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）