氢化锆氧化动力学的研究
通过恒温氧化实验研究了氢化锆在O2中,400~600℃温度范围内的氧化行为,分析了温度和时间对氧化膜生长速度的影响规律。结果表明,氢化锆在O2中450℃~600℃温度范围内,表面形成氧化膜的厚度的平方(D2)与时间(t)的关系曲线呈良好的线性关系,氧化反应动力学符合Wagner理论模型中的抛物线生长规律。氧原子在氧化膜中的扩散过程为氧化反应的控速步骤。扩散系数与温度遵循Arrhenius 定律,即 k= AeRT-Q,扩散激活能为18724.5J/mol,据此判断氧原子在氧化膜中的扩散机制以晶界扩散占主导。
氢化锆 恒温氧化 氧化动力学 氧化膜 晶界扩散机制
陈伟东 闫淑芳 钟学奎 王建伟
内蒙古工业大学材料科学与工程学院,呼和浩特 010051 北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所,北京 100088 内蒙古工业大学材料科学与工程学院,呼和浩特 010051 北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所,北京 100088
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2010-06-19(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)