氢化锆氧化动力学的研究

摘要：

　　通过恒温氧化实验研究了氢化锆在O2中，400～600℃温度范围内的氧化行为，分析了温度和时间对氧化膜生长速度的影响规律。结果表明，氢化锆在O2中450℃～600℃温度范围内，表面形成氧化膜的厚度的平方(D2)与时间(t)的关系曲线呈良好的线性关系，氧化反应动力学符合Wagner理论模型中的抛物线生长规律。氧原子在氧化膜中的扩散过程为氧化反应的控速步骤。扩散系数与温度遵循Arrhenius 定律，即 k= AeRT-Q，扩散激活能为18724.5J/mol，据此判断氧原子在氧化膜中的扩散机制以晶界扩散占主导。

关键词： 氢化锆 恒温氧化 氧化动力学 氧化膜 晶界扩散机制

作者: 陈伟东 闫淑芳 钟学奎 王建伟

作者单位: 内蒙古工业大学材料科学与工程学院，呼和浩特 010051 北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所，北京 100088 内蒙古工业大学材料科学与工程学院，呼和浩特 010051 北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所，北京 100088

会议类型: 国内会议

会议名称: 2010中国材料研讨会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 1-5

在线出版日期: 2010-06-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）