极紫外Mg/Si多层膜的改进和表征

摘要：

　　本文研究通过在Mg/Si多层膜引入Mo或SiC阻隔层的界面工程法来提高多层膜的光学性能。采用磁控溅射法镀制多层膜，X射线和极紫外反射法表征多层膜。测试结果表明，引入双层SiC阻隔层的Mg/SiC/Si/SiC多层膜与Mg/Si相比，界面质量和光学性能都有了极大的提高，在30nm处10度入射条件下，反射率从5.2％提高到40.2％。

关键词： 镁硅多层膜 光学性能 界面质量 界面工程法 性能优化

作者: 周斯卡 王晓强 李浩川 黄秋实 蒋励 张众 朱京涛 王占山

作者单位: 同济大学精密光学工程技术研究所，物理系 上海 200092

会议类型: 国内会议

会议名称: 长三角地区科技论坛激光分论坛暨上海市激光学会2011年学术年会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 206-209

在线出版日期: 2011-11-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）