重掺磷直拉硅片中缺陷的择优腐蚀

摘要：

　　研究了重掺磷硅单晶中微缺陷的择优腐蚀，指出由一份体积的CrO3水溶液(浓度为0.5mol/L)与一份体积的氢氟酸溶液组成的腐蚀液(Y1液)是一种合适的择优腐蚀液，它能够清晰地显示重掺磷硅单晶的空位型缺陷和间隙型缺陷(如位错和层错)。研究表明，Y1液可以用于快速简易地检测重掺磷硅单晶中的微缺陷。

关键词： 重掺磷直拉硅片 缺陷检测 腐蚀机理 光学显微镜

作者: 曾俞衡 杨德仁 马向阳 阙端麟

作者单位: 浙江大学 材料系,硅材料国家重点实验室,杭州 310027

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届全国半导体集成电路、硅材料学术会议

会议地点: 重庆

会议语种:中文

页码: 609-611

在线出版日期: 2007-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）