多弧离子镀与磁控溅射联用镀制TiN/SiO2复合装饰薄膜的研究
采用多弧离子镀法在金属表面制备氮化钛装饰层具有成膜速度快，膜层和基底结合力好的优点，因此被国内许多装饰镀膜相关的厂家所采用。但是这种镀膜方式也存在着色度难控制和“大颗粒”污染问题。而磁控溅射镀膜，膜厚容易控制且膜层致密。本文结合两种镀膜方法的优点，制备了TiN／SiO2复合薄膜。通过扫描电镜可以观察到，制备的复合膜比单纯的氮化钛薄膜更加致密和光滑，基本消除了大颗粒的影响。另外，可以通过控制溅射SiO2的时间实现对膜层色度的控制。当氧化硅溅射时间为30min时，得到的膜层为咖啡色，当氧化硅溅射时间为1h，膜层为玫瑰红色。采用两种镀膜手段联用的方法，可以得到高品质，颜色丰富的膜系。
表面处理 氮化钛膜 镀膜技术 工艺参数
朱元义 邓佩珊 朱常锋 朱文
佛山市双石钢业有限公司，广东 佛山 528251 肇庆市双石金属实业有限公司，广东 肇庆 526238 佛山市双石钢业有限公司，广东 佛山 528251 广州市番禺双石钛金厂，广东 广州 511430 肇庆市双石金属实业有限公司，广东 肇庆 526238
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2012-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）