不同插层前驱体对高岭石层间硅烷化嫁接的影响机理研究

摘要：

　　本研究拟采用有机硅烷对有机插层高岭石进行进一步层间嫁接改性，以期克服单纯有机插层改性产物稳定性较差的缺点，并通过引入硅烷的功能性基团改善插层产物的表面性质。有机硅烷采用三甲基氯硅烷(Trimethylchlorosilane, TMCS),探讨了两种不同有机前驱体对最终嫁接产物结构的影响。嫁接样品分别记为DK-TMCS(插层剂为二甲基亚讽，DMSO)。 MK-TMCS(插层剂为甲醇)。用XRD、FTIR、TG-DTG、SEM、以及比表面积与孔体积分析等方法对嫁接机理进行了研究。

关键词： 高岭石 有机插层 硅烷化嫁接 改性机理

作者: 杨淑勤 袁鹏 朱建喜 何宏平 覃宗华

作者单位: 中国科学院 广州地球化学研究所，广州 510640 中国科学院 研究生院，北京 100049 中国科学院 广州地球化学研究所，广州 510640

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国矿物岩石地球化学学会第13届学术年会

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 325-325

在线出版日期: 2011-04-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）