隔膜结构对电解合成五氧化二氮的影响

摘要：

　　采用RuO2-IrO2／Ti阳极和IrO2／Ti阴极、聚四氟乙烯隔膜和半连续板框式电解槽，在恒电压条件下研究了隔膜结构对N204电氧化合成N205过程的影响。结果表明，减小隔膜的孔径，有利于增大电流效率、减小比能。当隔膜孔径较低时，增加膜的厚度导致电解的电流效率降低、比能增加。当隔膜的孔径较高时，增加膜的厚度可提高电流效率、降低比能。对于电解合成N2O5过程而言，适宜的隔膜孔径是0．1μ m，适宜的隔膜厚度是60—150μ m之间。

关键词： 五氧化二氮 电解合成工艺 隔膜结构 渗透性能

作者: 王庆法 吴方敏 章一夫 王莅米 米镇涛

作者单位: 天津大学化工学院，绿色合成与转化教育部重点实验室，天津 300072

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国化学会第五届全国化学推进剂学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 193-196

在线出版日期: 2011-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）