质子和中子在硅中位移损伤等效性计算

摘要：

　　本文基于蒙特卡罗软件Geant4，建立质子和中子在硅中的非电离能量阻止本领计算方法。在此方法中，描述了原子间库仑散射的物理过程，模拟带电粒子与晶格原子之间的屏蔽库仑散射。计算得到不同能量中子和质子在硅中的非电离能量阻止本领及其等效性。

关键词： 原子核反应 沉积率 等效性 库仑散射 蒙特卡罗软件

作者: 王园明 郭晓强 陈伟 罗尹虹

作者单位: 西北核技术研究所 西安 710024

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国蒙特卡罗方法及其应用学术交流会

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 363-365

在线出版日期: 2012-06-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）