VLSI测试技术现状及发展趋势

摘要：

　　近年来，随着集成电路制造工艺的飞速发展，集成电路制造技术已从深亚微米进入到纳米技术阶段，集成电路系统集成度得到迅速提高，超大规模集成电路测试技术已逐渐成为制约集成电路研发成本和周期的“瓶颈”。全面介绍了VLSI的主要测试方法，分析了各自的特点，对超大规模集成电路测试技术的发展趋势做出了预测。

关键词： 微处理器 超大规模集成电路 功能测试 测性技术

作者: 刘丹妮 罗俊 邱忠文 徐学良 王健安 蔡建荣

作者单位: 中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆 400060

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十七届全国半导体集成电路、硅材料学术会议

会议地点: 三亚

会议语种:中文

页码: 66-70

在线出版日期: 2011-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）