SU-8扩散片光刻工艺研究

摘要：

　　基于标准的接触式光刻工艺，利用扩散片将平行照射的紫外光散射，制备了宽度为4μm～15μm的凹槽，具有半圆弧、双圆弧以及工形等截面结构和良好的形貌。详细研究了曝光时间和凹槽宽度对凹槽截面形态的影响。给出了不同横截面图形的制备工艺参数。

关键词： 光刻工艺 集成光电子器件 扩散片 SU-8光刻胶 工艺参数

作者: 李若舟 张彤 张晓阳 朱圣清 李威 杨代旭 屈蓓蓓

作者单位: 东南大学电子科学与工程学院,江苏 南京 210096

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国塑料光纤与聚合物光子学会议

会议地点: 合肥

会议语种:中文

页码: 45-49

在线出版日期: 2011-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）