聚合物波导形貌的等离子体刻蚀工艺优化研究
反应离子刻蚀和感应耦合等离子体刻蚀是硅基聚合物波导常用的制备工艺。本文以脊形波导为研究对象，利用扫描电子显微镜和原子力显微镜对比两种不同方法的刻蚀效果，系统分析了感应耦合等离子体刻蚀工艺中源功率、偏置功率、刻蚀腔室压强以及气体组分对聚合物脊形波导形貌的影响，得到了侧壁垂直度高和表面粗糙度小的优化丁艺条件。
反应离子刻蚀法 感应耦合等离子刻蚀法 聚合物光波导器件 波导形貌 工艺优化
孟杰 张琨 赵帅 曹子谏 靳琳 孙小强 张大明
集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,吉林大学电子科学与工程学院,长春 130012
国内会议
合肥
中文
87-93
2011-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）