聚合物光波导刻蚀表面散射损耗的研究

摘要：

　　本文选取聚甲基丙烯酸甲酯。甲基丙烯酸环氧丙酯(P(MMA-GMA))作为波导材料，利用有效折射率法计算了倒脊形波导单模传输条件，根据Tien理论分析了散射损耗与等离子体刻蚀后薄膜表面粗糙度的关系，利用原子力显微镜表征了感应耦合等离子体刻蚀技术(ICP)和反应离子刻蚀技术(RIE)对薄膜表面平整度的不同影响。实验结果表明，利用ICP刻蚀技术可以降低刻蚀表面粗糙度，减小由于散射导致的波导光损耗。

关键词： 聚合物光波导器件 等离子体刻蚀技术 反应离子刻蚀技术 散射损耗

作者: 张琨 孟杰 王辉 刘天际 李彤 孙小强 张大明

作者单位: 集成光电子学国家重点联合实验室 吉林大学实验区,吉林大学电子科学与工程学院,长春 130012

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国塑料光纤与聚合物光子学会议

会议地点: 合肥

会议语种:中文

页码: 94-101

在线出版日期: 2011-10-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）