溅射工艺对有机基底氧化钛薄膜应力的影响

摘要：

　　采用常温下靶面进气的直流反应磁控溅射方法在柔性聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)基片上制备氧化钛薄膜，通过正交试验设计沉积工艺条件(溅射功率、Ar：O2、溅射气压和镀膜时间)，分析各因素对薄膜应力水平的影响。研究表明，在试验范围内，溅射功率和镀膜时间对薄膜应力值的影响较为显著，而Ar：O2和溅射气压的影响相对较小。

关键词： 氧化钛薄膜 溅射工艺 薄膜应力 聚甲基丙烯酸甲酯

作者: 丁宇婷 张晓锋 张晓雯 颜悦

作者单位: 北京航空材料研究院,北京 100095

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届先进材料技术研讨会

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 131-134

在线出版日期: 2011-09-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）