靶基距对SiC纤维表面钛合金涂层微结构和生长的影响

摘要：

　　在SiC纤维表面利用直流磁控溅射PVD(Physical VaporDeposition)技术沉积钛合金是制备钛基复合材料的重要工艺过程。研究了直流磁控PVD技术在SiC纤维表面沉积钛合金工艺中，靶基距对涂层厚度分布，结构演变，薄膜生长的影响，并通过表面轮廓仪，XRD(X-RayDiffraction)，原子力显微镜对涂层进行表征。结果表明：随着靶基距的减小，涂层均匀性降低，沉积率增加，能量增高，生长模式由V型柱状晶变为等轴柱状晶；柱状晶由多个纳米柱状晶合并形成。

关键词： 靶基距 直流磁控溅射PVD技术 钛基复合材料 SiC纤维

作者: 黄浩 文懋 陈大明 李臻熙 黄旭

作者单位: 北京航空材料研究院,北京 100095 吉林大学 材料科学系,长春 130021

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届先进材料技术研讨会

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 135-139

在线出版日期: 2011-09-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）