电弧离子镀低温沉积和绕镀性研究
本文采用电弧离子镀技术，在聚酰亚胺衬底上沉积ZnO薄膜。利用x射线衍射(XRD)研究ZnO薄膜的微结构；采用薄膜热电偶测量沉积过程中衬底的表面温度。结果表明电弧离子镀是一种低温沉积技术，沉积过程中的衬底表面温度低于100℃。尽管沉积温度较低，仍能得到结晶性能很好的ZnO薄膜。绕镀性试验通过在不同凸面和凹面的聚合物衬底上沉积薄膜的厚度分布进行表征。结果表明，电弧离子镀具有较好的绕镀性，特别适合在表面凹凸不平的样品上镀膜。紫外老化试验结果表明ZnO薄膜具有抗紫外性能，本文的紫外辐射条件对薄膜的附着性能影响很小。
电弧离子镀技术 低温沉积 薄膜热电偶 绕镀性试验
胡昌吉 王俊 何振辉
中山大学理工学院光电材料与技术国家重点实验室,中山大学空间技术研究中心,广东,广州,510275
国内会议
北京
中文
242-247
2011-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）