纳米片状金刚石膜的制备和生长过程

摘要：

　　本文用微波等离子化学气相沉积系统(MPCVD)在镀钛的单晶硅衬底上制备纳米金刚石薄膜。反应气体为CH4和H2,其流量比为CH4：H2=30：30sccm,微波功率为1800 w,反应气压为10kPa。利用扫描电镜(SEM)和Raman光谱分析薄膜的形貌和碳结构。结果表明纳米金刚石薄膜呈现片状的组织特征,其生长过程为：生长初期在单晶硅衬底上形成由纳米碳颗粒组成的球状碳团簇；随着时间的增加,碳团簇逐渐增大,纳米碳颗粒定向排列或自组装,最终形成片状纳米金刚石膜。

关键词： 纳米金刚石膜 单晶硅 化学气相沉积系统 生长机理

作者: 姚宁 崔娜娜 鲁占灵 苏博 葛亚爽 安子凤 张兵临

作者单位: 中国科学院安徽光学精密机械研究所,合肥 230031 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州 450052 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州 450052 郑州大学材料科学与工程学院,郑州 450052

会议类型: 国内会议

会议名称: 2011中国(郑州)国际磨料磨具磨削技术发展论坛暨超硬材料论坛

会议地点: 郑州

会议语种:中文

页码: 69-73

在线出版日期: 2011-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）