利用原位红外光谱研究退火过程对聚-3 己基噻吩薄膜的影响

摘要：

　　本文利用原位红外光谱技术研究了退火过程中聚3-己基噻吩分子结构转变的过程，并结合X射线衍射和紫外可见吸收光谱对退火后样品的性质进行了测试，解释了退火过程对聚3-己基噻吩薄膜样品的影响。

关键词： 聚3-己基噻吩薄膜 结构分析 性能测试 原位红外光谱技术 退火过程

作者: 曹丽丽 耿玉静 崔得良

作者单位: 山东大学，晶体材料国家重点实验室，济南 260100

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十六届全国光散射学术会议

会议地点: 厦门

会议语种:中文

页码: 152

在线出版日期: 2011-11-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）