不同还原条件下石墨烯的制备及其表征

以膨胀石墨(Exfoliated Graphite,简称G)为原料,利用Hummers法制备氧化石墨烯(Graphene oxide, GOs)溶液,用水合肼作还原剂获得石墨烯。本文主要研究氧化石墨烯浓度、还原剂用量等对石墨烯的影响,使用X射线衍射仪(XRD)、傅立叶变换红外光谱仪(FTIR)、比表面积与孔隙度分析仪、冷场发射扫描电镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)等表征方法。发现GOs浓度在0.2-0.5mg/ml之间时,均可以获得片层数较少的石墨烯片,且随着GOs溶度增加,石墨烯的分散性有所降低。随着还原剂用量的增加,氧化石墨烯的还原程度越大,石墨烯中微孔的平均孔径越小,但是过量的还原剂也会影响石墨烯的分散性。
石墨烯 制备工艺 结构分析 分散性
史珊 高光耀 翟登云 李宝华 康飞宇
清华大学深圳研究生院新材料研究所,广东深圳 518055 清华大学深圳研究生院新材料研究所,广东深圳 518055 清华大学材料科学与工程系,北京 100084
国内会议
深圳
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354-359
2011-12-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)