玻璃基底和表面粗糙度对氮化硅薄膜椭偏测量的影响

摘要：

　　在光谱椭偏测量中，玻璃基底的背反射会给椭偏测量造成较大影响，针对平板显示器件玻璃基底表面氮化硅镀膜进行了椭偏测量和模型计算，讨论了玻璃基底中非相干背反射以及薄膜界面层、表面粗糙度对模型拟合度的影响，给出了玻璃基底以及薄膜体系的光学常数，薄膜结构的分析结果，对透明基底表面沉积单层或多层薄膜均有借鉴意义。

关键词： 玻璃基底 表面粗糙度 氮化硅薄膜 光谱椭偏测量 曲线拟合

作者: 刘文德 陈赤 樊其明 徐英莹 张静

作者单位: 中国计量科学研究院，北京 100013

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国计量测试学会光辐射计量学术研讨会

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 360-362

在线出版日期: 2011-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）