APCVD化学气相沉积镀膜技术在太阳电池生产中的应用

摘要：

以多晶硅代替单晶硅可以减少生产太阳电池的成本.但晶硅表面晶体方向的无序性,使我们用常规的NaOH制备的表面织构的光吸收效果达不到所需要的要求.APCVD化学沉积镀TiO<,2>膜是在多晶硅片上镀一层减反射膜来增强其光吸收.改善多晶硅太阳电池片电池特性,提高多晶硅片的转换效率.

关键词： 多晶硅太阳电池 二氧化钛薄膜 化学气相沉积镀膜 减反射膜 光电转换效率

作者: 马莉

作者单位: 云南半导器件厂(昆明)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国第六届光伏会议

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 170-172

在线出版日期: 2000-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）