APCVD化学气相沉积镀膜技术在太阳电池生产中的应用
以多晶硅代替单晶硅可以减少生产太阳电池的成本.但晶硅表面晶体方向的无序性,使我们用常规的NaOH制备的表面织构的光吸收效果达不到所需要的要求.APCVD化学沉积镀TiO<,2>膜是在多晶硅片上镀一层减反射膜来增强其光吸收.改善多晶硅太阳电池片电池特性,提高多晶硅片的转换效率.
多晶硅太阳电池 二氧化钛薄膜 化学气相沉积镀膜 减反射膜 光电转换效率
马莉
云南半导器件厂(昆明)
国内会议
中国第六届光伏会议
昆明
中文
170-172
2000-10-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)