红外成像系统光学窗口电磁屏蔽技术研究
本文研究了红外成像系统光学窗口的电磁屏蔽技术。通过分析多个项目的多台单机的电磁兼容检测结果，得出现有国产红外成像系统电磁屏蔽技术难点是RS103抗电磁干扰以及RE112的电磁泄漏问题,超标的一个频点分布范围是500MNz-1.5GHz,分别研究了谐振网筛和非谐振网筛的设计方法和制作工艺,非谐振网筛相当于一个高通滤波器,随入射角增大没有呈现明显的偏振效应，具有较大的特征尺寸,设计和制作相对容易。谐振网筛相当于一个带通滤波器，可实现透过率>90％，需要消除偏振效应的影响.电磁屏蔽效率比非谐振网筛更高，特征尺寸较小,设计和制作相对复杂,采用光学窗口金属网筛屏蔽技术可以从根本上消除RS103的执电磁干扰问题以及RE102的电磁泄漏问题。
红外成像系统 光学窗口 电磁屏蔽 网谐振筛
赵劲松 刘传明 白本蜂
昆明,昆明物理研究所,650223 杭州,浙江大学信电系超大规模集成电路研究所,310027 北京,清华大学精密仪器系光电工程研究所,100084
国内会议
北京
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1-8
2011-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）