HNMR、电导率、FT-IR技术研究γ-APS水解行为
硅烷偶联剂被广泛应用于金属的预处理中，硅烷的水解作为最主要的工艺步骤之一，水解后产生的Si-OH 的量将直接影响硅烷化预处理效果。本文综合采用1 HNMR 、电导率、FT-IR 方法系统研究了γ -APS 的水解行为。1 HNMR 测试结果表明，可据O-CH2-CH3 、α CH2 的变化研究γ -APS 的逐级水解行为，但是NMR 强磁场加速了γ -APS 的水解，无法追踪γ -APS 的真实水解行为。电导率测试结果表明，随水解过程的进行，体系电导率呈现缓慢增加趋势；据体系电导率的变化可粗略描述γ -APS 的水解及缩聚行为，无法精确描述水解产物的组成及其含量随水解时间的变化。FT-IR 测试结果表明，随水解时间的延长，Si-OH 的量呈指数形式增长，直至达到最大；据水解液的红外测试光谱图可追踪γ -APS 的真实水解行为，但受测试方法所限，FT-IR 无法描述低浓度（<10vol.％）硅烷水解液的水解行为。本文详细阐述了硅烷分子水解行为表征方法的优缺点，并对不同方法所得的实验结果的差异性进行了较为深入的分析。
γ-APS 水解行为 电导率 FT-IR方法
张玉新 杨丽霞 雷小丽 刘明星
中国地质大学材料科学与化学工程学院,武汉,中国,430074
国内会议
银川
中文
155-161
2011-08-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）