可用于正性化学增幅型光刻胶的苄叉烷烃酮类双光子敏化剂

摘要：

　　本研究合成了以三苯胺为电子给体的苄叉烷烃酮类双光子染料，并将染料和光生酸剂组成双光子敏化产酸体系，系统的研究了染料的光化学和光物理性质。利用优选出的敏化产酸体系制备了化学增幅型正性光刻胶，用衰减全反射红外谱研究了光刻胶膜中经双光子吸收敏化产酸的催化降解过程。将光刻胶应用于飞秒激光双光子微加工，评估了其加工性能。

关键词： 光敏染料 正性光刻胶 光刻胶膜 双光子吸收

作者: 袁浩 赵榆霞 吴飞鹏

作者单位: 中国科学院理化技术研究所,北京 100190

会议类型: 国内会议

会议名称: 2011先进影像材料与前沿技术学术论坛

会议地点: 哈尔滨

会议语种:中文

页码: 46-49

在线出版日期: 2011-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）