电子束蒸发技术制备ITO薄膜表面形貌研究

摘要：

　　采用电子束蒸发技术在玻璃衬底上制备了ITO薄膜，通过X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)以及原子力显微镜(AFM)等方法对薄膜进行了测试表征。系统研究了衬底温度，氧气流量，沉积速率以及薄膜厚度对ITO表面形貌的影响。

关键词： 电子束蒸发技术 GaN基发光二极管 ITO薄膜 表面形貌 衬底温度 氧气流量

作者: 徐化勇 沈燕 刘晓燕 王成新 李树强 徐现刚

作者单位: 山东大学晶体材料国家重点实验室,济南市历城区山大南路27号 250100 山东华光光电子有限公司,济南市高新区天辰大街1885号 250101 山东大学晶体材料国家重点实验室,济南市历城区山大南路27号 250100

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届中国国际半导体照明论坛

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 276-280

在线出版日期: 2011-11-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）