会议专题

以肼/高岭石插层复合物为中间相制备0.84nm水合高岭石

  研究了以肼/高岭石插层复合物为中间相,在40~70℃处理使肼从层间快速挥发,可以简单快速制备稳定性较好的d001为0.84nm的水合高岭石。

肼/高岭石插层复合物 中间相 制备工艺 水合高岭石

周璟 杜丕一

浙江大学,材料科学与工程系,杭州,310027

国内会议

2011中国(景德镇)高技术陶瓷国际论坛暨第十届全国工程陶瓷学术年会

江西景德镇

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2011-10-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)