缓蚀剂对化学机械抛光液中铜的保护作用
本文考察了色氨酸(Try)对化学机械抛光液中的保护作用，通过复配技术研究了Try和苯并三氮唑（BTA）对化学机械抛光液中铜的协同保护作用。选择Try和BTA复配，作为化学机械抛光液中铜缓蚀剂。采用电化学阻抗法和极化曲线法对其效果进行了研究，结果表明15mg／L BTA + 35mg／L Try复配使用，可导致腐蚀电位正移，其保护效率可达87.0％。结论可得，采用Try和BTA复配使用可以增强化学机械抛光液对铜基体的保护作用，有利于提高抛光液的选择性，同时保持较高的抛光效率，降低BTA缓蚀剂对环境的污染。
化学机械抛光液 保护作用 缓蚀剂 色氨酸 铜基体
吴崇田 张大全 高立新 廉进卫
上海电力学院环境工程系 上海 200090 上海必美宜新华抛磨材料有限公司 上海 201703
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2011全国(武汉)防锈润滑包装学术交流大会暨防锈专业委员会第五届五次历史(扩大)会——绿色防锈润滑包装新技术论坛
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2011-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）