酸蚀刻单晶硅片粗糙度研究

摘要：

由于电力电子器件的市场对酸腐蚀片的需求，如何制备低粗糙度的酸腐蚀片越来越研究受到关注，而酸腐蚀工艺对粗糙度的影响却鲜有报道。本文讨论的酸腐蚀工艺对腐蚀片粗糙度的影响，发现随着腐蚀厚度的增加酸腐片的粗糙度越来越小；而随着温度的升高酸腐片的粗糙度变小；腐蚀较多硅片的腐蚀液腐蚀硅片粗糙度较大。

关键词： 单晶硅片 酸蚀刻工艺 粗糙度

作者: 由佰玲 李科技 罗翀 孙希凯 刘振福 李翔

作者单位: 中环领先材料技术有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二十五届中国(天津)2011’IT、网络、信息技术、电子、仪器仪表创新学术会议

会议地点: 天津

会议语种:中文

页码: 136-139

在线出版日期: 2011-09-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）