PSTT10／45多层铁电薄膜的制备与表征
以LaNiO3(LNO）做缓冲层，在SiO2／Si基底上用射频磁控溅射法制备出具有钙钛矿结构的(PSTT10／45)5多层铁电薄膜(PSTT10，0.9Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.1PbTiO3)和(PSTT45，0.55Pb(Sce0.5Ta0.5)O3-0.45PbTiO3).采用两步快速退火法，对(PSTT10／45)5多层铁电薄膜在700℃退火3次.对薄膜的晶体结构、表面形貌、铁电性、介电性进行了表征.结果表明，(PSTT10／PSTT45)5多层铁电薄膜几乎为纯钙钛矿相，在（100）方向择优取向，表面平整致密，室温下剩余极化2Pr为10.9 μC／cm2，矫顽场2Ec为80kV/cm,5 V下漏电流为24.1 μA／cm2，1 kHz下介电常数为637.9，介电损耗为0.072.
多层铁电薄膜 射频磁控溅射 两步法快速退火 钙钛矿 晶体结构 表面形貌
严东旭 李雪冬 郭红力 余萍 朱建国
四川大学材料科学与工程学院成都 610064 中国工程物理研究院 四川 绵阳 621900 四川大学材料科学与工程学院成都 610064 绵阳师范学院物理与电子工程学院 四川 绵阳 621000 四川大学材料科学与工程学院成都 610064
国内会议
成都
中文
14-16
2010-11-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）