图形化金属薄膜的制备及电磁性能的研究

摘要：

运用光刻技术制备周期性图形化金属Ni膜，并利用X射线衍射(XRD)、扫描式电子显微镜(SEM)，X射线能谱仪(EDS)、振动样品磁强记(VSM)等分析手段表征样品的基本结构信息及静态磁特性.实验结果表明，在工作气压为0.6 Pa，功率为100 W的情况下，运用光刻及刻蚀工艺可制备出不同厚度条状周期结构的Ni薄膜.实验发现不同溅射时间及不同周期的图形化形状等工艺条件对Ni薄膜的电磁特性有一定影响.

关键词： 电磁性能 光刻工艺 金属薄膜 周期图形化 射频磁控溅射

作者: 徐浩然 张楠 卢华 张丽 陆海鹏 周佩珩

作者单位: 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 成都 610054

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国电介质物理、材料与应用学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 69-73

在线出版日期: 2010-11-25（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）