低纯度Si粉催化法反应烧结制备Si3N4陶瓷及其性能

摘要：

以低纯度的工业级Si粉为原料，通过添加氧化锆，反应烧结制备氮化硅陶瓷材料，加入10％(质量分数)的氧化锫试样在4 h的氮化时间内其氮化率相对于没有加入添加剂的试样从43％增加到94％以上，在1000℃，24 h的氧化实验下，在氧化锆的试样中发现试样表面存在大量的微裂纹。研究表明，这是由于大量的ZrN聚集在氮化硅晶界，ZrN在氧化气氛下将会转变成ZrO2这将造成晶格转变引起裂纹产生。10％含量的试样表现出良好的抗氧化特性，其抗弯强度也能达到210 MPa。

关键词： 反应烧结 催化法 氮化硅 陶瓷材料 抗氧化特性 抗弯强度

作者: 韩涛 金志浩 侯击波 杨万利 程军

作者单位: 中北大学,山西太原 030051 西安交通大学,陕西 西安 710055 中北大学,山西 太原 030051

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十六届全国高技术陶瓷学术年会暨景德镇高技术陶瓷高层论坛

会议地点: 景德镇

会议语种:中文

页码: 265-267

在线出版日期: 2010-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）