工艺参数对磁控溅射纯Cr薄膜沉积过程的影响

摘要：

基于磁控溅射离子镀技术，以纯Cr薄膜为研究对象，分析了不同工艺参数对纯Cr薄膜微观组织结构的影响规律；结合溅射沉积和薄膜生长原理揭示了不同工艺参数对纯Cr薄膜沉积过程的本质影响；探讨了磁控溅射离子镀技术在工程材料的纳米化和非晶化进程中应有的功能，以期为纳米材料的研发及其制备技术的创新提供参考依据。

关键词： 磁控溅射 纯Cr薄膜 微观结构 微观组织结构

作者: 李洪涛 蒋百灵 杨波 付杨洪

作者单位: 西安理工大学材料学院 陕西西安,金花南路五号,710048

会议类型: 国内会议

会议名称: 第八届中国纳米科技西安研讨会

会议地点: 银川

会议语种:中文

页码: 109-114

在线出版日期: 2009-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）