多孔Ti/BDD电极的制备条件探索

摘要：

众所周知,高质量的掺硼金刚石(BDD) 薄膜具有较宽的电化学窗口,较低的背景电流以及较强的抗腐蚀性,这使得它在电分析、电解氧化等方面都有着广泛的应用。 BDD薄膜一般被沉积在平板Si,Ta,Nb,W, Ti和其他金属或半导体基体上”1”,这些BDD 电极已经被广泛研究和应用。但是如果我们可以制备出多孔BDD电极,那么将可能制备具有高比表面积的多孔BDD电极,提高电流效率。

关键词： 掺硼金刚石薄膜 多孔电极 电流效率

作者: 孙见蕊 林海波 李红东 陆海彦 鲁晶

作者单位: 吉林大学化学学院 长春 130012 吉林大学化学学院 长春 130012;吉林大学环境与资源学院 长春 130012 吉林大学超硬国家重点实验室 长春 130012

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国环境化学学术大会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 940

在线出版日期: 2011-09-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）