电子束辐照PET薄膜制备有序多孔阵列高分子模板

摘要：

本文用掩膜工艺电子束蚀刻技术产生具有潜影的聚酯(PET)薄膜,经强氧化液(浓硫酸与重铬酸钾的混台液)腐蚀,产生有序微米多孔阵列PBT模板。讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响。结果表明：随着辐照剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的增加,PET基膜更易被腐蚀。IR、DSC测量结果表明：辐照导致化学键的断裂、非晶化转变,是导致辐照PFT薄膜的腐蚀失重率增加的原因。用此方法制各了孔径大小一致的微米级有序多孔阵列PET模板。

关键词： 掩膜工艺 电子束蚀刻 有序多孔阵列 高分子模板

作者: 郝旭峰 周瑞敏 吴新锋 周菲 邓邦俊 费舜廷

作者单位: 上海大学射线应用研究所 上海 201800

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第十次释光与电子自旋共振测定年代学术讨论会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

页码: 952-955

在线出版日期: 2006-11-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）