高功率MPCVD金刚石膜红外光学材料制备研究
本文使用自行研制的椭球谐振腔式MPCVD装置，以H_2-CH_4为气源，就高功率条件下CH_4浓度对金刚石膜的生长速率和品质的影响规律进行了研究，并在此基础上进行了大面积光学级金刚石膜的沉积。利用扫描电镜、激光拉曼谱仪、傅立叶红外光谱仪对金刚石膜的表面和断口形貌、金刚石膜的品质、红外透过率等进行了表征。实验结果表明，使用自行设计建造的椭球谐振腔式MPCVD装置在高功率条件下通过提高CH_4浓度会使金刚石膜的生长速率增加，但当CH_4浓度达到一定比例后，金刚石膜的生长速率将不再继续提高。CH_4浓度在0.5％～2％时制备的金刚石膜品质较高；自行设计建造的椭球谐振腔式MPCVD装置能够满足在较高功率下光学级金刚石膜的快速沉积要求。
红外材料 金刚石膜 薄膜制备 气相沉积
于盛旺 黑鸿君 刘艳青 李义锋 范朋伟 唐伟忠
北京科技大学材料科学与工程学院,北京 100083
国内会议
宁波
中文
227-230
2011-09-26（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）