聚酰亚胺/SiO2-Al2O3三层复合薄膜制备工艺研究

摘要：

　　本论文分别研究了聚酰亚胺三层复合薄膜制备工艺中的一、二层成膜温度及时间、三层膜中单层掺杂层与未掺杂层的厚度比、无机粒子的含量和无机组分重量比等因素对聚酰亚胺三层复合薄膜亚胺化程度、力学性能和介电性能的影响。

关键词： 聚酰亚胺 制备工艺 纳米复合薄膜 介电性能

作者: 刘立柱 杨立倩 翁凌 崔巍巍 朱兴松 石慧

作者单位: 哈尔滨理工大学材料科学与工程学院,哈尔滨 150040 哈尔滨理工大学工程电介质及其应用教育部重点实验室,哈尔滨 150040 哈尔滨理工大学材料科学与工程学院,哈尔滨 150040

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国工程电介质学术会议

会议地点: 西安

会议语种:中文

页码: 208-211

在线出版日期: 2011-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）