利用数字光刻系统制作掩模版的工艺研究

摘要：

　　本文提出一种利用基于DMD(数字微反射镜装置)的数字光刻系统制作掩模版的方法。首先通过ATUOCAD制图软件制作出二元光栅、龙基光栅、达曼光栅以及菲涅耳波带片等衍射光学元件的掩模图，然后将这些图形导入数字光刻机，利用DMD系统的空间光调制特性，经精缩投影曝光，在覆胶铬板上刻蚀出相应的图案，最后经过腐蚀及去胶得到需要的掩模版。将制作好的掩模版用于精缩光学系统，便可在晶圆片上得到比掩模版上小得多的图案，达到高分辨率的要求。

关键词： 数字光刻系统 掩模版 衍射光学元件

作者: 颜丽华 徐冉冉 龚勇清

作者单位: 南昌航空大学测试与光电工程学院,南昌 330063

会议类型: 国内会议

会议名称: 2010中国光学学会全息与光信息处理专业委员会年会暨专委会成立25周年纪念会

会议地点: 南昌

会议语种:中文

页码: 34-38

在线出版日期: 2010-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）