压印光刻中两级对正的新型技术
压印光刻中套刻需要粗、精两级对正。实验采用一对斜纹结构光栅作为对正标记。利用物镜组观察光栅标记图像的边界特征进行粗对正，其精度在精对正信号的捕捉范围内；利用光电接收器件阵列组合接收光栅莫尔信号，在莫尔信号的线性区进行精对正。由于线性区的斜率大，精对正过程中得到相应x，y方向的对正误差信号灵敏度高，利用高灵敏度对正误差信号作为控制系统的驱动信号，对承片台进行驱动定位，实现精对正。最终使X，Y方向上的重复对正精度分别达到了±20nm(3o)和±25nm(3o)。
压印光刻 两级对正技术 驱动定位 光栅标记
王莉 卢秉恒 丁玉成 刘红忠
西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室,710049,西安
国内会议
北京
中文
74-78
2005-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）