薄膜应力对薄膜光学特性影响的实验研究

摘要：

　　从实验上验证了基片曲率变化引起的光学薄膜厚度变化的不均匀性是引起这种窄带干涉滤光片光谱退化的主要原因，实验结果为：IOOGHz窄带滤光片的薄膜应力为-2.97GPa；200GHz的为-1.057GPa。其基片分两次减薄。光谱变化为插损增加，通带带宽变小，通带平坦度变差。基片越薄，薄膜光谱变化越严重；越远离薄膜控厚点，光谱退化越严重。实验结果与前述理论分析结果一致。

关键词： 窄带干涉滤光片 光谱退化 薄膜应力 光学特性

作者: 任旭升 王成 钱龙生

作者单位: 中科院长春光学精密机械与物理研究所,长春 130022 上海交通大学激光与光子生物医学研究所,上海 200030

会议类型: 国内会议

会议名称: 2005全国博士生学术论坛——光学工程

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 83-86

在线出版日期: 2005-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）