热处理对TbDyFe薄膜性能的影响

摘要：

　　采用磁控溅射方法利用镶嵌靶材制备非晶TbDyFe 薄膜,然后分别在150,300,450,550 ℃ ℃ ℃ ℃ 下退火,研究了热处理对TbDyFe 薄膜性能的影响。通过X 射线,SEM,VSM 测量了薄膜的结构及性能,结果 显示,550 ℃温度下退火的样品出现RFe2 相。随着退火温度的升高,晶粒逐渐长大,空洞网络变短而宽。薄膜的磁特性显示,其矫顽力及矩磁比均在出现RFe2 相的550 ℃退火的样品中达到最大值。随着退火温 度的增加,薄膜的易磁化轴从垂直膜面方向向平行膜面方向转动。

关键词： 磁致伸缩薄膜 TbDyFe 非晶 退火

作者: 杜兆富 王蕾 徐立红 张洪平 赵栋梁

作者单位: 钢铁研究总院功能材料研究所,北京 100081

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国青年材料科学技术研讨会

会议地点: 南京

会议语种:中文

页码: 401-406

在线出版日期: 2009-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）