大气压非平衡等离子体枪沉积二氧化硅薄膜
在大气压下，利用非平衡等离子体枪，以四乙氧基硅（TEOS）为先驱体，沉积二氧化硅薄膜。实 验中，以氮气和少量氧气的组成的混合气体作为等离子体的发生气体。以氮气作为TEOS 载气，并在 60sccm~160sccm 之间调节流量。通过光学椭偏仪、红外光谱(FTIR) 、扫描电镜(SEM) 对所沉积的薄膜进 行表征。结果表明，在硅衬底表面沉积得的薄膜为多孔的包含OH 基团的二氧化硅薄膜，且在薄膜的表面 嵌球状颗粒。随着TEOS 流量的增加，除了薄膜沉积速率成线性增长外，薄膜中OH 基团含量，颗粒含量 和尺寸，以及薄膜的多孔性都相应地增加或增大。这表明，以氮气为等离子体的发生气体，在大气压下，利用非平衡等离子体枪沉积二氧化硅薄膜是可行的，通过改变流量参数可以实现对薄膜性能的调控。
二氧化硅薄膜 非平衡等离子体枪 大气压 氮气 四乙氧基硅
林江 张溪文
浙江大学无机非金属材料研究所,杭州 310027
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960-964
2009-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）