影响磁控溅射均匀性的因素

摘要：

　　用中频孪生靶磁控溅射实验平台，对影响磁控溅射生成的薄膜厚度均匀性的因素进行了实验。结果表明，磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的主要因素。针对实验结果，提出了用磁场和气体相互配合达到高的镀膜均匀性。

关键词： 磁控溅射 磁场 气体 均匀性

作者: 王军生 童洪辉 赵嘉学 韩大凯 戴彬

作者单位: 核工业西南物理研究院

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十三届全国等离子体科学技术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 236-240

在线出版日期: 2007-08-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）