浮动块研磨抛光机研磨磁头的表面去除分析
通过对浮动块研磨抛光机工作时的运动学分析，发现研磨时任意磁头上任意一点的运动轨迹是周期性的，这种运动周期的重复性与工作圆环的角速度ω2和研磨盘的角速度ω1之比有关。当浮动块研磨抛光机工作在理想状态下时，ω1=ω2,此时任意磁头上的任意一点移动的路程相等，表明磁头表面去除率相同，缺点是其轨迹的重复性太强。实际工作中，由于理想状态难以存在，磁头表面能取得均化的研磨条纹，而整个研磨平面的平整精度却不一定很高。分析中还发现任意一点每周期移动的路程长度与ω、e有关，ω、e越大，周期路程越长。而较短的岗期路程表明轨迹的方向改变愈频繁，有利于获得好的表面质量，只是去除率会降低。分析结果表明，粗研磨时宜取较高的转速以提高效率，而精研磨时宜取较低的转速以提商表面质量。
磁头 研磨 抛光 运动学 去除率
申儒林 吴任和 钟掘
中南大学机电工程学院，湖南 长沙，410083
国内会议
北京
中文
1141-1145
2005-09-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）