MoCr合金薄膜的应力特性研究

摘要：

采用磁控溅射工艺在Si(100)衬底上溅射不同条件下的MoCr合金薄膜。结果表明，MoCr合金薄膜的应力与溅射功率，氨气压强和溅射类型有直接的联系，应力从张应力连续变化到压应力，且应力变化范围很大，实验结果表明该薄膜可用于应力控制的微机电系统(MEMS)三维微结构中。

关键词： MoCr合金薄膜 应力特性 磁控溅射

作者: 胡尔同 秦明

作者单位: 东南大学MEMS教育部重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国仪器仪表学会仪表元件分会第五届仪器仪表元器件研讨会暨广东省仪器仪表学会第二次学术会议

会议地点: 扬州

会议语种:中文

页码: 129-132

在线出版日期: 2011-05-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）