基于双光子染料敏化产酸的化学增幅型正性光刻胶及其双光子微加工

摘要：

本工作合成了以三苯胺为电子给体的双光子敏化染料，并将染料和光生酸剂组成双光子敏化产酸体系.系统的研究了染料的光化学和光物理性质，讨论了染料经光致电子转移过程敏化产酸剂产酸的机理，并测定了各敏化产酸体系在溶液中的产酸效果.利用优选出的敏化产酸体系制备了化学增幅型正性光刻胶，用衰减全反射红外谱研究了光刻胶膜中酸催化过程。将光刻胶应用于飞秒激光双光子微加工，评估了加工性能。

关键词： 双光子染料 敏化产酸 双光子微加工 化学增幅型正性光刻胶

作者: 袁浩 赵榆霞 吴飞鹏

作者单位: 中国科学院理化技术研究所，北京 100190

会议类型: 国内会议

会议名称: 2011第十二届中国辐射固化年会

会议地点: 广东东莞

会议语种:中文

页码: 138-144

在线出版日期: 2011-04-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）