采用电喷雾质谱法测定对映体过量值
对映体过量值(enantiomeric excess,ee.对R-构型对映体而言,ee=100(R-S)/(R+S))的测定对于组合合成、不对称合成及天然产物分析等工作有着十分重要的意义。如在组合合成中,大量的不对称化合物可以被迅速合成出来,而复杂的对映体纯度测定过程却往往成为延缓整个工作进度的关键因素。因此建立快速、简便、灵敏、可靠的高通量对映体过量值测定方法是人们十分重视的问题。
电喷雾质谱法 对映体过量值 测定方法
刘勤 吴弼东 谢剑炜
军事医学科学院毒物药物研究所,北京 100850
国内会议
南宁
中文
40-42
2010-11-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)