高功率脉冲非平衡磁控溅射制备CrNx薄膜及其性能的研究
高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)由于具有溅射粒子离化率高,可以沉积致密、高性能薄膜,作为一种新技术已经在国外广泛研究。本文采用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)制备了一系列CrNx薄膜,采用原子力显微镜(AFM)和×射线衍射(XRD)对所制备不同厚度的薄膜表面形貌、微观结构进行了分析,测定了薄膜的厚度、硬度,并对薄膜的摩擦学性能进行了研究,与中频磁控溅射(MFMS)技术制备的CrNx进行了比较。结果表明,使用高功率脉冲非平衡磁控溅射技术(HPPUMS)能够制备致密的CrNx薄膜。薄膜具有较好的综合性能：较高硬度、较高结合强度和低摩擦系数。
CrNx薄膜 气相沉积 脉冲功率 硬度 高功率脉冲磁控溅射技术
牟晓东 牟宗信 王春 臧海荣 刘冰冰 董闯
三束材料改性教育部重点实验室(大连理工大学),物理与光电工程学院 大连 116024
国内会议
大连
中文
289-293
2010-06-30（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）